P04400 - SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様 Revision:SEMI P44-0709 - Superseded 本標準應用在背光模組。標準中包含使用在背光模組元件的專用術語，以及背光模組工業、面板、和設備工業所用之檢驗和量測的專用術語。其他領域則由其他的

本標準應用在背光模組。標準中包含使用在背光模組元件的專用術語，以及背光模組工業、面板、和設備工業所用之檢驗和量測的專用術語。其他領域則由其他的

SEMI G9-84 (technical revision)

SEMI E62-0302A (editorial revision)

The metallization within vias plays an important role for the performance of MWT solar cells because the generated current collected by the front fingers will be transferred through the vias to the rear side of the cells

and test FPD products

P04400 - SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様 Revision:SEMI P44-0709 - Superseded 本標準應用在背光模組。標準中包含使用在背光模組元件的專用術語，以及背光模組工業、面板、和設備工業所用之檢驗和量測的專用術語。其他領域則由其他的global Micropatterning Committee2009513global Audits and Reviews Subcommittee20096www. semi. org20097CD ROM200511200811 OASISOASIS. MASK Referenced SEMI Standards SEMI P39 OASIS Open Artwork System InterchangeStandard