P04600 - SEMI P46 - XMLによるフォトマスクのCD計測情報データの仕様 Revision:SEMI P46-0706 - Superseded SEMI S22-0706b (delayed revision)

SEMI S22-0706b (delayed revision)

Such an instrument can also be used for measurements on thin silicon or other thin conducting films on nonconductive substrates

SECS-IIは，アイテムとアイテムリストというもので，メッセージの構造を定義している。この構造により，メッセージを正しく解釈するために，データ形式をデータ自身で定義することができる。

マークに使われる基本的なコードを定義することで，この仕様はウェーハメーカーにより施されるウェーハマーキングの同一性を確実にするものである。従って，自動光学式文字読取（OCR）装置のパフォーマンス要求を簡略化することを可能にし，ウェーハを取り扱うことなく人が直接読み取ることができ，またウェーハレベルのプロセス変動を解明するのに役立つものである。

This Guide provides reference to other relevant SEMI Standards that ensure quality and reliability of UPW systems

P04600 - SEMI P46 - XMLによるフォトマスクのCD計測情報データの仕様 Revision:SEMI P46-0706 - Superseded SEMI S22-0706b (delayed revision)global Micropatterning Committeeglobal Audits and Reviews Subcommittee200651620066www. semi. org 20067CD ROM XMLCD Referenced SEMI Standards SEMI P10 Specification of Data Structures for Photomask Orders SEMI P41 Specification for Mask Defect Data Handling with Xml, Between Defect Inspection Tools, Repair Tools, and Review Tools