P03400 - SEMI P34 - 230mm方形フォトマスク基板の仕様 Revision:SEMI P34-0200 (Reapproved 0707) - Inactive 本スタンダードでは，FPDカラーフィルタに使用される高抵抗樹脂ブラックマトリクス（BM）の指定された特性を測定するための実施要領を確立するものとする。これらの方法は，製造，品質管理，および開発業務に応用することができる。

本スタンダードでは，FPDカラーフィルタに使用される高抵抗樹脂ブラックマトリクス（BM）の指定された特性を測定するための実施要領を確立するものとする。これらの方法は，製造，品質管理，および開発業務に応用することができる。

Automated self-indexing with such communications as GPIB or RS-232C between tester and prober equipment is outside the scope of this Specification but is not precluded

The wafer alphanumeric code links the properties of the wafer stored in an appropriate database system to each individual wafer for purposes of tracking and control during wafer and device manufacture

SEMI M65-0306 (first published)

本仕様は，global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は，2010年8月27日 ，global Audits & Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2010年10月にwww

P03400 - SEMI P34 - 230mm方形フォトマスク基板の仕様 Revision:SEMI P34-0200 (Reapproved 0707) - Inactive 本スタンダードでは，FPDカラーフィルタに使用される高抵抗樹脂ブラックマトリクス（BM）の指定された特性を測定するための実施要領を確立するものとする。これらの方法は，製造，品質管理，および開発業務に応用することができる。NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI SEMI global Micropatterning Committee2007425global Audits and Reviews Subcommittee20076www. semi. org20002 NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been