M01200 - SEMI M12 - ウェーハ表面の連続英数字マーキングの仕様 Revision:SEMI M12-0706 (Reapproved 1011) - Superseded 35-95 (technical revision)

35-95 (technical revision)

本仕様は，半導体製造時の機械テストや日常的なプロセスモニターに使用される新品シリコンテストウェーハに対する要求条件について述べている。

本スタンダードは，Environmental Health & Safety Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2012年6月18日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2012年8月にwww

SEMI PV13 — Test Method for Contactless Excess-Charge-Carrier Recombination Lifetime Measurement in Silicon Wafers

originally published June 2011

M01200 - SEMI M12 - ウェーハ表面の連続英数字マーキングの仕様 Revision:SEMI M12-0706 (Reapproved 1011) - Superseded 35-95 (technical revision)global Traceability Committee2006516global Audits and Reviews Subcommittee20066www. semi. org20067CD ROM1988200311 OCR SOI Referenced SEMI Standards SEMI M13 Specification for Alphanumeric Marking of Silicon Wafers