P02300 - SEMI P23 - プログラム欠陥マスクおよびマスク欠陥検査システムの感度分析ベンチマーク手順についてのガイドライン Revision:SEMI P23-0200 (Reapproved 1107) - Inactive but not part of the

but not part of the requirements) on the 200 mm wafer size

or outgassing

This Guide applies to advanced semiconductor facilities requiring control of the UPW particles from 5 to 15　nm

本スタンダードは，global Gases Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年12月24日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2012年4月にwww

本ガイドでは，半導体製造装置で使用するエネルギー，ユーティリティ，および材料の保全に関するコンセプトを取り上げる。

P02300 - SEMI P23 - プログラム欠陥マスクおよびマスク欠陥検査システムの感度分析ベンチマーク手順についてのガイドライン Revision:SEMI P23-0200 (Reapproved 1107) - Inactive but not part of theNOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI SEMI global Micropatterning Committee200795global Audits and Reviews Subcommittee200710www. semi. org199320002 NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been